mas v tom troxa bordel ale to nevaPůvodně odeslal LtK
![]()
1 krok : cista doska Si
2 oxidacia povrchu
3 litografia - nanesenie laku , osvit ,vyvolanie
4 leptanie povrchu dosky - odleptanie oxidu
5 leptanie fotorezistu-laku
6 difuzia ...kde je neodleptany oxid dopant nenadifunduje do cistej Si vrstvy- alebo implantacia tadial neprerazi atomy dopantu
totok je zrychlika 1 uroven pre IO
podla zlozitosti je urovni 3-25
jj je to tagMillisx
Já bych řek, že wafer se nazývá ten oplatek křemíku.
a to z coho sa to rezie / ten Si valec / sa vola INGOT






Odpověď s citací